如何在掃描電鏡中避免樣品的輻射損傷
日期：2024-10-30
在掃描電鏡（SEM）中，避免樣品的輻射損傷非常重要，特別是對敏感材料和生物樣品。以下是一些有效的策略：
1. 調整加速電壓
使用較低的加速電壓：降低電子束的加速電壓可以減少樣品表面的能量輸入，從而降低輻射損傷的風險，尤其適合對輻射敏感的材料。
2. 控制束流強度
調節束流：選擇適當的束流強度，以降低對樣品的輻照量。束流越低，輻射損傷的風險越小，但需要在成像質量和輻射損傷之間找到平衡。
3. 減少掃描時間
縮短掃描時間：通過降低圖像分辨率或減少每個區域的掃描時間，可以降低樣品在電子束下暴露的時間，減少輻射損傷。
4. 使用快速成像技術
快速掃描模式：利用快速成像技術（如場發射掃描電鏡的快速成像模式），可以在較短時間內獲得圖像，減少樣品的輻射損傷。
5. 實施樣品冷卻
冷卻樣品：使用冷卻裝置（如液氮冷卻）降低樣品溫度，通常低溫下樣品對輻射的耐受性更強。
6. 優化樣品準備
導電涂層：在非導電樣品表面涂覆一層導電膜（如金或碳），可以有效減少輻射損傷，增加電子束的導電性。
選擇合適的樣品：優先選擇對輻射損傷不敏感的樣品，或經過處理的樣品，以提高耐輻射能力。
7. 實施動態觀察
實時監測與控制：通過實時監測樣品狀態，動態調整成像參數，盡可能降低輻射對樣品的影響。
8. 采用防護措施
樣品罩或隔離：在樣品與電子束之間使用合適的防護罩或隔離裝置，減少輻射對樣品的直接照射。
9. 使用中和裝置
電子束中和器：使用電子束中和器中和樣品表面可能產生的電荷，從而減少因電荷積累導致的輻射損傷。
10. 定期維護設備
設備校準：定期校準和維護掃描電鏡，以確保電子束的穩定性，避免因設備故障引發的意外輻射損傷。
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作者：澤攸科技